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酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、および透明導電膜[ja]
被引:0
申请号
:
JP20110525866
申请日
:
2010-07-29
公开(公告)号
:
JP5768290B2
公开(公告)日
:
2015-08-26
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C04B35/00
IPC分类号
:
C23C14/08
C23C14/34
H01B5/14
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、および透明導電膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2011016388A1
,2013-01-10
[2]
酸化物焼結体とその製造方法、ターゲット、および透明導電膜[ja]
[P].
日本专利
:JP6015801B2
,2016-10-26
[3]
複合酸化物焼結体、ターゲット、酸化物透明導電膜及びその製法[ja]
[P].
日本专利
:JP5942414B2
,2016-06-29
[4]
酸化物焼結体の製造方法およびターゲットの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5952031B2
,2016-07-13
[5]
複合酸化物焼結体、その製造方法、およびターゲット[ja]
[P].
日本专利
:JP5919792B2
,2016-05-18
[6]
酸化物焼結体、それから成るターゲットおよび透明導電膜[ja]
[P].
日本专利
:JP5740992B2
,2015-07-01
[7]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電膜[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019187269A1
,2021-04-08
[8]
酸化物焼結体、スパッタリングターゲットおよび透明導電膜[ja]
[P].
日本专利
:JP7203088B2
,2023-01-12
[9]
透明導電膜製造用の酸化物焼結体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010035715A1
,2012-02-23
[10]
透明導電膜製造用の酸化物焼結体[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010035716A1
,2012-02-23
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