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金属酸化物半導体薄膜トランジスタの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160528381
申请日
:
2014-06-11
公开(公告)号
:
JP6426177B2
公开(公告)日
:
2018-11-21
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
H01L21/336
IPC分类号
:
H01L29/786
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
金属酸化物半導体の製造方法、金属酸化物半導体および薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP5640323B2
,2014-12-17
[2]
薄膜トランジスタの半導体層用酸化物薄膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP5856559B2
,2016-02-10
[3]
酸化物半導体薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP7681959B2
,2025-05-23
[4]
金属酸化物半導体膜の製造方法及び薄膜トランジスタの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6195986B2
,2017-09-13
[5]
金属酸化物半導体およびその製造方法、半導体素子、薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JP5644111B2
,2014-12-24
[6]
金属酸化物半導体およびその製造方法、半導体素子、薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009081862A1
,2011-05-06
[7]
トランジスタ用酸化物半導体膜の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6028961B2
,2016-11-24
[8]
薄膜トランジスタ、半導体装置及び薄膜トランジスタの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2015151337A1
,2017-04-13
[9]
酸化物半導体の成膜方法及び薄膜トランジスタの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7595246B2
,2024-12-06
[10]
金属酸化物半導体薄膜の製造方法、これを用いた薄膜トランジスタ[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009031423A1
,2010-12-09
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