金属酸化物半導体薄膜トランジスタの製造方法[ja]

被引:0
申请号
JP20160528381
申请日
2014-06-11
公开(公告)号
JP6426177B2
公开(公告)日
2018-11-21
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H01L21/336
IPC分类号
H01L29/786
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
引用
下载
收藏