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化合物、酸発生剤、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20160090667
申请日
:
2016-04-28
公开(公告)号
:
JP6695207B2
公开(公告)日
:
2020-05-20
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C07C309/70
IPC分类号
:
C08F20/38
C09K3/00
G03F7/004
G03F7/038
G03F7/039
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
塩、酸発生剤、化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025015499A
,2025-01-30
[2]
化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6665030B2
,2020-03-13
[3]
化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6665031B2
,2020-03-13
[4]
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6803665B2
,2020-12-23
[5]
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6774214B2
,2020-10-21
[6]
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6959726B2
,2021-11-05
[7]
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7492843B2
,2024-05-30
[8]
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6507065B2
,2019-04-24
[9]
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6789068B2
,2020-11-25
[10]
化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7233871B2
,2023-03-07
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