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塩、酸発生剤、化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法[ja]
被引：0
申请号：
JP20240114880
申请日：
2024-07-18
公开(公告)号：
JP2025015499A
公开(公告)日：
2025-01-30
发明(设计)人：
申请人：
申请人地址：
IPC主分类号：
G03F7/004
IPC分类号：
C07C309/12
C07C309/17
C07C381/12
C08F212/14
C08F220/16
C09K3/00
G03F7/039
G03F7/20
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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