一种表面磁控溅射真空镀膜机

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202420359942.8

申请日：

2024-02-27

公开(公告)号：

CN221837085U

公开(公告)日：

2024-10-15

发明(设计)人：

宗武龙胡枭巴威

申请人：

湖北仁齐科技有限公司

申请人地址：

438000 湖北省黄冈市麻城经济开发区兴隆路

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

代理机构：

成都环泰专利代理事务所(特殊普通合伙) 51242

代理人：

朱霞

法律状态：

授权

国省代码：

湖北省黄冈市

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-15	授权	授权

共 50 条

[1]

真空镀膜机（磁控溅射） [P].

李飞 ;

杨占锋 ;

李桂洋 ;

潘士保 ;

张志聪 .

中国专利 :CN307706673S ,2022-12-02

[2]

一种磁控溅射真空镀膜机 [P].

谢学东 ;

谢辉东 .

中国专利 :CN214327869U ,2021-10-01

[3]

一种磁控溅射真空镀膜机 [P].

宋泳东 .

中国专利 :CN210916237U ,2020-07-03

[4]

一种单室磁控溅射真空镀膜机 [P].

黄成日 ;

池连花 ;

张坡 .

中国专利 :CN214830638U ,2021-11-23

[5]

真空镀膜机磁控溅射靶装置 [P].

黄瑞安 .

中国专利 :CN201890921U ,2011-07-06

[6]

磁控溅射真空镀膜机腔体 [P].

杜建飞 .

中国专利 :CN309125686S ,2025-02-18

[7]

一种新型磁控溅射真空镀膜机 [P].

王涛 ;

李娜 ;

盛永利 ;

郑立冬 ;

张奇 .

中国专利 :CN220503175U ,2024-02-20

[8]

一种高效磁控溅射真空镀膜机 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN210620930U ,2020-05-26

[9]

磁控溅射真空镀膜机组 [P].

章新良 ;

彭为报 ;

崔介东 ;

龚瑞 .

中国专利 :CN201801582U ,2011-04-20

[10]

一种磁控溅射真空镀膜机 [P].

张勇军 ;

卢成 ;

王伟 ;

魏佳 ;

刘维龙 .

中国专利 :CN118390017A ,2024-07-26

← 1 2 3 4 5 →