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基片处理装置和基片处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910875980.2
申请日：
2019-09-17
公开(公告)号：
CN110931389B
公开(公告)日：
2024-08-02
发明(设计)人：
东博之
穴本笃史
大塚贵久
筱原和义
小宫洋司
申请人：
东京毅力科创株式会社
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
代理机构：
北京尚诚知识产权代理有限公司 11322
代理人：
龙淳
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-08-02 | 授权 | 授权 |