一种化学气相沉积设备的进气结构及化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411140992.8

申请日：

2024-08-20

公开(公告)号：

CN118653135A

公开(公告)日：

2024-09-17

发明(设计)人：

请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名请求不公布姓名

申请人：

新美光（苏州）半导体科技有限公司

申请人地址：

215200 江苏省苏州市工业园区群星三路10号

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/32

代理机构：

苏州锦尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32502

代理人：

尤寅飞;董超男

法律状态：

专利权质押登记、变更及注销

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-19	专利权质押登记、变更及注销	专利权质押登记IPC(主分类):C23C 16/455登记号:Y2025980056798登记日:20251203出质人:新美光（苏州）半导体科技有限公司质权人:中信银行股份有限公司苏州分行发明名称:一种化学气相沉积设备的进气结构及化学气相沉积设备申请日:20240820授权公告日:20250527
2024-10-08	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20240820
2024-09-17	公开	公开
2025-05-27	授权	授权

共 50 条

[1]

一种化学气相沉积设备的进气结构及化学气相沉积设备 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN118653135B ,2025-05-27

[2]

低压化学气相沉积的进气结构及气相沉积设备 [P].

刘倩 ;

郁寅珑 ;

付少剑 ;

王钰 ;

王泊温 .

中国专利 :CN218146928U ,2022-12-27

[3]

化学气相沉积设备的进气结构、进气方法及设备 [P].

商家强 .

中国专利 :CN111394789A ,2020-07-10

[4]

化学气相沉积载台结构及化学气相沉积设备 [P].

朱合意 ;

贾钊 ;

窦志珍 ;

胡恒广 .

中国专利 :CN222524669U ,2025-02-25

[5]

化学气相沉积设备的气路结构及化学气相沉积设备 [P].

卢山 ;

陈神星 ;

姜鼎 ;

黄荣 .

中国专利 :CN216473473U ,2022-05-10

[6]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[7]

化学气相沉积设备 [P].

金昶成 ;

刘相德 ;

洪钟波 ;

沈智慧 ;

李元申 .

中国专利 :CN102230167A ,2011-11-02

[8]

化学气相沉积设备 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN102108498B ,2011-06-29

[9]

化学气相沉积设备 [P].

金宰湖 ;

朴相俊 .

中国专利 :CN1302152C ,2002-10-23

[10]

化学气相沉积设备 [P].

仰卫 .

中国专利 :CN107435141A ,2017-12-05

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