等离子体刻蚀装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202420297584.2

申请日：

2024-02-18

公开(公告)号：

CN221827830U

公开(公告)日：

2024-10-11

发明(设计)人：

刘涛乐卫平宋成张文杰谢幸光王霞吴凤波

申请人：

深圳市恒运昌真空技术股份有限公司

申请人地址：

518000 广东省深圳市宝安区西乡街道铁岗社区桃花源智创小镇功能配套区B栋101,201,301

IPC主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

代理机构：

深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287

代理人：

鲁叶

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-10-11	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子体刻蚀装置 [P].

刘涛 ;

乐卫平 ;

宋成 ;

张文杰 ;

谢幸光 ;

王霞 ;

吴凤波 .

中国专利 :CN117894663A ,2024-04-16

[2]

等离子体刻蚀装置 [P].

苏财钰 ;

伍凯义 ;

杨然翔 ;

喻兵 ;

伍修颀 .

中国专利 :CN215933530U ,2022-03-01

[3]

等离子体刻蚀装置 [P].

丁佳 ;

吴长明 ;

冯大贵 ;

欧少敏 ;

冯玉岩 .

中国专利 :CN214672495U ,2021-11-09

[4]

等离子体刻蚀装置及等离子体刻蚀方法 [P].

刘东升 ;

吕煜坤 ;

朱骏 ;

张旭升 .

中国专利 :CN105161395A ,2015-12-16

[5]

等离子体刻蚀装置及其等离子体刻蚀方法 [P].

周亚勇 ;

罗林 ;

刘家桦 .

中国专利 :CN109256316A ,2019-01-22

[6]

等离子体刻蚀装置和等离子体刻蚀方法 [P].

黄啟伟 ;

柳波 ;

高君 ;

张家赫 ;

刘彦伟 .

中国专利 :CN121096838A ,2025-12-09

[7]

等离子体刻蚀设备 [P].

王晶 ;

李谦 .

中国专利 :CN202633210U ,2012-12-26

[8]

等离子体刻蚀机台 [P].

张海洋 ;

张城龙 .

中国专利 :CN203895414U ,2014-10-22

[9]

等离子体刻蚀机 [P].

刘波 ;

单书珊 ;

乔彦彬 ;

李建强 ;

陈燕宁 ;

张海峰 .

中国专利 :CN208444807U ,2019-01-29

[10]

等离子体刻蚀设备 [P].

赵馗 ;

王奕善 ;

倪图强 .

中国专利 :CN214152845U ,2021-09-07

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