一种用于改善镀膜设备产品均匀性的装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202323151529.7

申请日：

2023-11-21

公开(公告)号：

CN221192309U

公开(公告)日：

2024-06-21

发明(设计)人：

林杜迫林忠铭王友良

申请人：

厦门市祥禾日升科技有限公司

申请人地址：

361000 福建省厦门市集美区杏前路191号厂房二层

IPC主分类号：

C23C14/54

IPC分类号：

C23C14/22

代理机构：

北京聚力顺为知识产权代理事务所(普通合伙) 16274

代理人：

朱立云

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-06-21	授权	授权

共 50 条

[1]

用于改善薄膜均匀性的镀膜设备 [P].

周云 ;

宋维聪 ;

解文骏 ;

方合 .

中国专利 :CN112708865A ,2021-04-27

[2]

一种可调节镀膜均匀性的镀膜设备 [P].

刘晓东 .

中国专利 :CN218203010U ,2023-01-03

[3]

用于改善沉积炉镀膜均匀性的气流装置 [P].

何佳龙 ;

袁正国 .

中国专利 :CN222106751U ,2024-12-03

[4]

一种可改善磁控溅射镀膜均匀性的镀膜装置 [P].

班超 ;

程春生 ;

张钦廉 ;

曹嘉寰 ;

符东浩 ;

李传文 ;

刘毅楠 ;

赵浩 .

中国专利 :CN202193839U ,2012-04-18

[5]

一种改善镀膜均匀性的假片 [P].

宋晓良 ;

姚晓波 .

中国专利 :CN204144229U ,2015-02-04

[6]

一种增加镀膜均匀性的装置 [P].

章明 ;

职森森 ;

刘晓瑞 ;

刘锐 ;

陈伟 ;

吴仕梁 ;

路忠林 ;

张凤鸣 .

中国专利 :CN212610891U ,2021-02-26

[7]

一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置 [P].

冯斌 ;

王德苗 ;

金浩 .

中国专利 :CN212713729U ,2021-03-16

[8]

一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置 [P].

冯斌 ;

王德苗 ;

金浩 .

中国专利 :CN111334764A ,2020-06-26

[9]

用于改善PECVD镀膜均匀性的挡气板 [P].

静福印 ;

陈文浩 ;

刘仁中 ;

张斌 .

中国专利 :CN205241785U ,2016-05-18

[10]

一种提高镀膜均匀性的镀膜装置 [P].

龙何军 .

中国专利 :CN215365960U ,2021-12-31

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