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掩模版修补方法及装置、掩模版修补控制设备和存储介质
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202111326898.8
申请日：
2021-11-10
公开(公告)号：
CN113985696B
公开(公告)日：
2024-07-19
发明(设计)人：
高翌
张哲玮
林锦鸿
王梅侠
朱佳楠
申请人：
泉意光罩光电科技（济南）有限公司
申请人地址：
250000 山东省济南市高新区经十路7000号汉峪金融商务中心A4-(4)办公楼九层904室
IPC主分类号：
G03F1/72
IPC分类号：
G03F1/26
G03F1/74
代理机构：
北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463
代理人：
贾耀斌
法律状态：
授权
国省代码：
江苏省
常州市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-07-19 | 授权 | 授权 |