掩模版修补方法及装置、掩模版修补控制设备和存储介质

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111326898.8

申请日：

2021-11-10

公开(公告)号：

CN113985696B

公开(公告)日：

2024-07-19

发明(设计)人：

高翌张哲玮林锦鸿王梅侠朱佳楠

申请人：

泉意光罩光电科技（济南）有限公司

申请人地址：

250000 山东省济南市高新区经十路7000号汉峪金融商务中心A4-(4)办公楼九层904室

IPC主分类号：

G03F1/72

IPC分类号：

G03F1/26 G03F1/74

代理机构：

北京超凡宏宇知识产权代理有限公司 11463

代理人：

贾耀斌

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省常州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-07-19	授权	授权

共 50 条

[1]

掩模版修补方法及装置、掩模版修补控制设备和存储介质 [P].

高翌 ;

张哲伟 ;

林锦鸿 ;

王梅侠 ;

朱佳楠 .

中国专利 :CN113985696A ,2022-01-28

[2]

相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P].

张哲玮 ;

高翌 ;

朱佳楠 .

中国专利 :CN113467180A ,2021-10-01

[3]

相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 [P].

张哲玮 ;

高翌 ;

朱佳楠 .

中国专利 :CN113467180B ,2024-01-26

[4]

PSM掩模版白缺陷修补方法、设备及存储介质 [P].

何祥 ;

雷健 ;

黄执祥 ;

崔嘉豪 ;

郑祺弘 .

中国专利 :CN117289544B ,2024-02-20

[5]

掩模版清洗设备和掩模版清洗方法 [P].

吕龙 .

中国专利 :CN114798599A ,2022-07-29

[6]

掩模版结构和掩模版精度监控方法 [P].

杨坤 ;

居碧玉 ;

李亚洲 ;

刘伟林 ;

许文霞 ;

周国庆 ;

林宝 .

中国专利 :CN117666277A ,2024-03-08

[7]

掩模版的形成方法及掩模版 [P].

姚军 ;

曹清晨 ;

刘峻 ;

胡小龙 ;

高峰 .

中国专利 :CN109752930A ,2019-05-14

[8]

掩模版清洗方法、装置、设备、存储介质及产品 [P].

雷健 ;

谢超 ;

侯广杰 ;

刘传龙 .

中国专利 :CN119187111B ,2025-09-09

[9]

掩模版检测方法、装置、设备以及存储介质 [P].

杨勤丰 ;

何俊龙 ;

张锋 ;

廖文超 ;

张启顺 .

中国专利 :CN118961744B ,2025-07-04

[10]

掩模版检测方法、装置、设备以及存储介质 [P].

杨勤丰 ;

何俊龙 ;

张锋 ;

廖文超 ;

张启顺 .

中国专利 :CN118961744A ,2024-11-15

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