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2つのオフセットレーザビームを提供するための光学装置及び方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210503085
申请日
:
2019-07-24
公开(公告)号
:
JP7410121B2
公开(公告)日
:
2024-01-09
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G02B26/10
IPC分类号
:
B23K26/067
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
2つのオフセットレーザビームを提供するための光学装置及び方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021531507A
,2021-11-18
[2]
レーザービームを用いた加工のための光学装置、レーザービームを用いた加工方法、及びガラス物品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JP6603829B1
,2019-11-06
[3]
レーザービームを用いた加工のための光学装置、レーザービームを用いた加工方法、及びガラス物品の製造方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2019193918A1
,2020-04-30
[4]
光ビームのドリフトを検出するための光学装置および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2021518582A
,2021-08-02
[5]
光ビームのドリフトを検出するための光学装置および方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7324220B2
,2023-08-09
[6]
粒子ビームを生成するための粒子源及び粒子光学装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7188910B2
,2022-12-13
[7]
レーザ加工装置のレーザビーム位置決め装置[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2003080283A1
,2005-07-21
[8]
光学装置製造のためのイオンビーム源[ja]
[P].
日本专利
:JP2022515347A
,2022-02-18
[9]
光学装置製造のためのイオンビーム源[ja]
[P].
日本专利
:JP7447118B2
,2024-03-11
[10]
半導体レーザの光学装置およびそのような光学装置を有するレーザ装置[ja]
[P].
日本专利
:JP2025513735A
,2025-04-30
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