プラズマトーチ及び動作方法[ja]

被引:0
申请号
JP20230563081
申请日
2022-04-13
公开(公告)号
JP2024519410A
公开(公告)日
2024-05-13
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
H05H1/34
IPC分类号
B01J19/08 C01B3/24
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
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共 50 条
[1]
プラズマトーチ反応器及び反応方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2024518715A ,2024-05-02
[2]
[3]
プラズマ処理方法、及びプラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019003483A1 ,2019-07-04
[5]
エッチング方法及びプラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023041914A ,2023-03-24
[6]
処理方法及びプラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022099113A ,2022-07-04
[7]
プラズマ処理装置及びクリーニング方法[ja] [P]. 
KITAGAWA DAI .
日本专利 :JP2025119489A ,2025-08-14
[8]
プラズマ処理装置及び基板処理方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025172575A ,2025-11-26
[9]
プラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025173686A ,2025-11-28
[10]
プラズマ処理装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2022105037A ,2022-07-12