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搬送装置、成膜装置及び制御方法[ja]
被引:0
申请号
:
JP20210018396
申请日
:
2021-02-08
公开(公告)号
:
JP7344236B2
公开(公告)日
:
2023-09-13
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
C23C14/56
IPC分类号
:
B65G43/00
B65H5/06
H05B33/10
H10K50/10
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
基板の搬送装置、成膜装置、制御方法、成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7664051B2
,2025-04-17
[2]
搬送装置及び成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7350029B2
,2023-09-25
[3]
搬送装置及び成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7507182B2
,2024-06-27
[4]
搬送装置及び成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7350104B2
,2023-09-25
[5]
成膜制御装置、成膜装置及び成膜方法[ja]
[P].
日本专利
:JP7171092B1
,2022-11-15
[6]
真空搬送装置及び成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7242414B2
,2023-03-20
[7]
基板搬送装置及び成膜装置[ja]
[P].
日本专利
:JP7320034B2
,2023-08-02
[8]
成膜装置及び成膜装置用基板搬送装置[ja]
[P].
日本专利
:JP5856885B2
,2016-02-10
[9]
成膜装置及び成膜装置の制御方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2022090053A
,2022-06-16
[10]
成膜装置及び成膜装置の制御方法[ja]
[P].
KOJIMA YASUHIKO
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KOJIMA YASUHIKO
;
ISHIBASHI SHOTA
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
ISHIBASHI SHOTA
;
KITADA TORU
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
TOKYO ELECTRON LTD
TOKYO ELECTRON LTD
KITADA TORU
.
日本专利
:JP2024011978A
,2024-01-25
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