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マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビームの測定方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20210061721
申请日：
2021-03-31
公开(公告)号：
JP2024075811A
公开(公告)日：
2024-06-05
发明(设计)人：
FUJISAKI EITA IIZUKA OSAMU NANAO TSUBASA
申请人：
NUFLARE TECHNOLOGY INC
申请人地址：
IPC主分类号：
H01L21/027
IPC分类号：
G03F7/20 H01J37/09 H01J37/244 H01J37/305
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
マルチ荷電粒子ビームのビーム位置測定方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6383228B2 ,2018-08-29
[2]
マーク位置測定方法、マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025182510A ,2025-12-15
[3]
マルチ荷電粒子ビーム像の回転角測定方法、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角調整方法、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6442295B2 ,2018-12-19
[4]
荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP2025183021A ,2025-12-16
[5]
荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビームのビーム分解能測定方法、及び荷電粒子ビーム描画装置の調整方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6376014B2 ,2018-08-22
[6]
荷電粒子ビームの分解能測定方法及び荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP6702127B2 ,2020-05-27
[7]
荷電粒子ビーム分布測定システムおよび荷電粒子ビーム分布測定方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6438646B2 ,2018-12-19
[8]
ビーム位置測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法[ja] [P]. 
NANAO TSUBASA ;
IIZUKA OSAMU .
日本专利 :JP2025024968A ,2025-02-21
[9]
荷電粒子ビーム描画の偏向位置調整方法及び荷電粒子ビーム描画方法[ja] [P]. 
NAKATSUKA ATSUSHI .
日本专利 :JP2025110705A ,2025-07-29
[10]
高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P]. 
日本专利 :JP5643618B2 ,2014-12-17
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