マーク位置測定方法、マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置[ja]

被引：0

申请号：

JP20240090116

申请日：

2024-06-03

公开(公告)号：

JP2025182510A

公开(公告)日：

2025-12-15

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/027

IPC分类号：

G03F7/20 H01J37/305

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共 50 条

[1]

マルチ荷電粒子ビームのビーム位置測定方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P].

日本专利 :JP6383228B2 ,2018-08-29

[2]

マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビームの測定方法[ja] [P].

FUJISAKI EITA ;

IIZUKA OSAMU ;

NANAO TSUBASA .

日本专利 :JP2024075811A ,2024-06-05

[3]

マルチ荷電粒子ビーム像の回転角測定方法、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角調整方法、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P].

日本专利 :JP6442295B2 ,2018-12-19

[4]

ビーム位置測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法[ja] [P].

NANAO TSUBASA ;

IIZUKA OSAMU .

日本专利 :JP2025024968A ,2025-02-21

[5]

荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビームのビーム分解能測定方法、及び荷電粒子ビーム描画装置の調整方法[ja] [P].

日本专利 :JP6376014B2 ,2018-08-22

[6]

荷電粒子ビームの分解能測定方法及び荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P].

日本专利 :JP6702127B2 ,2020-05-27

[7]

高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P].

日本专利 :JP5643618B2 ,2014-12-17

[8]

マルチビーム焦点調整方法およびマルチビーム焦点測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6700152B2 ,2020-05-27

[9]

荷電粒子ビーム分布測定システムおよび荷電粒子ビーム分布測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6438646B2 ,2018-12-19

[10]

荷電粒子測定装置及び荷電粒子測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6591309B2 ,2019-10-16

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