ビーム位置測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20230129380

申请日：

2023-08-08

公开(公告)号：

JP2025024968A

公开(公告)日：

2025-02-21

发明(设计)人：

NANAO TSUBASA IIZUKA OSAMU

申请人：

NUFLARE TECHNOLOGY INC

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/027

IPC分类号：

G03F7/20 H01J37/147 H01J37/22

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法律状态信息

共 50 条

[1]

荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビームのビーム分解能測定方法、及び荷電粒子ビーム描画装置の調整方法[ja] [P].

日本专利 :JP6376014B2 ,2018-08-22

[2]

荷電粒子ビームの分解能測定方法及び荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P].

日本专利 :JP6702127B2 ,2020-05-27

[3]

マルチ荷電粒子ビームのビーム位置測定方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P].

日本专利 :JP6383228B2 ,2018-08-29

[4]

マーク位置測定方法、マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025182510A ,2025-12-15

[5]

荷電粒子ビーム分布測定システムおよび荷電粒子ビーム分布測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP6438646B2 ,2018-12-19

[6]

高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置[ja] [P].

日本专利 :JP5643618B2 ,2014-12-17

[7]

マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビームの測定方法[ja] [P].

FUJISAKI EITA ;

IIZUKA OSAMU ;

NANAO TSUBASA .

日本专利 :JP2024075811A ,2024-06-05

[8]

ビーム測定方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP2020502862A ,2020-01-23

[9]

電子ビーム測定装置および電子ビーム測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP7157508B2 ,2022-10-20

[10]

電子ビーム測定装置および電子ビーム測定方法[ja] [P].

日本专利 :JP7569432B2 ,2024-10-17

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