凝縮プラズモイドを生成するための装置及び方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20240529908

申请日：

2022-11-22

公开(公告)号：

JP2024542239A

公开(公告)日：

2024-11-13

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

G21B3/00

IPC分类号：

G21H1/00

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日

法律状态

法律状态信息

共 50 条

[1]

トロイダルプラズマ生成のための方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP2025529120A ,2025-09-04

[2]

ＮＯｘを還元するための装置及びＮＯｘを還元するための触媒を調製するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2024532608A ,2024-09-05

[3]

流体で表面を印刷するための方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP2018505039A ,2018-02-22

[4]

管を合金でライニングするための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2016502605A ,2016-01-28

[5]

微小錠剤を製造するための方法及び装置[ja] [P].

MIR A IMRAN ;

ARTHUR HSU CHEN CHANG ;

ONG CHANG JIN ;

DELIA ANNA GRATTA .

日本专利 :JP2024161047A ,2024-11-15

[6]

微小錠剤を製造するための方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JP2022511041A ,2022-01-28

[7]

グリッドを製造するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2020533810A ,2020-11-19

[8]

基板を処理するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025500621A ,2025-01-09

[9]

半導体材料にドープするための方法[ja] [P].

日本专利 :JP5833115B2 ,2015-12-16

[10]

低温でＣＯ及びＨＣを酸化するための触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2016535671A ,2016-11-17

← 1 2 3 4 5 →