掩模版

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN202430077939.2

申请日：

2024-02-04

公开(公告)号：

CN308989750S

公开(公告)日：

2024-12-06

发明(设计)人：

姚青林许发生

申请人：

广州增芯科技有限公司

申请人地址：

511300 广东省广州市增城区宁西街创优路333号

IPC主分类号：

15-09

IPC分类号：

代理机构：

上海慧晗知识产权代理事务所(普通合伙) 31343

代理人：

邵晓丽

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-06	授权	授权

共 50 条

[1]

掩模版扫描装置 [P].

丁伟尧 .

中国专利 :CN102087478B ,2011-06-08

[2]

掩模版装载工艺 [P].

沈锦华 ;

张方元 ;

杨锋力 .

中国专利 :CN100504616C ,2007-11-07

[3]

掩模版检测方法 [P].

罗先刚 ;

乔帮威 ;

曾鑫 ;

高平 ;

郑昊 ;

王璞 .

中国专利 :CN118276400A ,2024-07-02

[4]

通用掩模版及其应用 [P].

宋矿宝 .

中国专利 :CN103376645A ,2013-10-30

[5]

掩模基版、光掩模版及其制备方法 [P].

季明华 ;

任新平 ;

黄早红 .

中国专利 :CN114995051A ,2022-09-02

[6]

掩模基版、光掩模版及其制备方法 [P].

季明华 ;

林岳明 ;

任新平 ;

黄早红 .

中国专利 :CN114911129A ,2022-08-16

[7]

光刻机测试掩模版 [P].

王俊峰 .

中国专利 :CN220691253U ,2024-03-29

[8]

掩模版及使用掩模版调式光刻机套刻精度的匹配方法 [P].

朱文渊 ;

杨晓松 .

中国专利 :CN101315514B ,2008-12-03

[9]

用于光刻机中的掩模版固定装置及掩模版固定方法 [P].

黎刚生 ;

顾鲜红 ;

范哲光 .

中国专利 :CN102540779B ,2012-07-04

[10]

掩模版及其制备方法、光刻机 [P].

郑海昌 ;

吴隆武 ;

王晓龙 .

中国专利 :CN112612177B ,2024-01-23

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