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掩模基版、光掩模版及其制备方法
被引：0
申请号：
CN202210807523.1
申请日：
2022-07-11
公开(公告)号：
CN114911129A
公开(公告)日：
2022-08-16
发明(设计)人：
季明华
林岳明
任新平
黄早红
申请人：
申请人地址：
201218 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区江山路2699弄1号楼5楼南侧
IPC主分类号：
G03F138
IPC分类号：
G03F160
代理机构：
北京清大紫荆知识产权代理有限公司 11718
代理人：
黎飞鸿;郑纯
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-08-16 | 公开 | 公开 |
| 2022-09-02 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/38 申请日:20220711 |