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一种高耐热共聚型负性光刻胶组合物及其制备方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202111509236.4
申请日：
2021-12-10
公开(公告)号：
CN114265284B
公开(公告)日：
2024-11-08
发明(设计)人：
陈旺 康威 康凯
申请人：
深圳迪道微电子科技有限公司
申请人地址：
518000 广东省深圳市光明区凤凰街道塘尾社区光明大道与东长路交叉口东南侧南太云创谷园区2栋805
IPC主分类号：
G03F7/075
IPC分类号：
G02F1/1339
代理机构：
南京苏创专利代理事务所(普通合伙) 32273
代理人：
王华
法律状态：
授权
国省代码：
广东省 深圳市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-11-08 授权 授权
共 50 条
[1]
一种高耐热共聚型负性光刻胶组合物及其制备方法 [P]. 
陈旺 ;
康威 ;
康凯 .
中国专利 :CN114265284A ,2022-04-01
[2]
一种负性光刻胶树脂组合物及其制备方法 [P]. 
孙雯雯 .
中国专利 :CN102830589B ,2012-12-19
[3]
一种负性光刻胶组合物及其应用 [P]. 
李启贵 ;
张洋 ;
汪岳 ;
王鹏飞 ;
马爱平 ;
王小伟 .
中国专利 :CN119322429A ,2025-01-17
[4]
一种负性光刻胶组合物及其应用 [P]. 
李启贵 ;
张洋 ;
汪岳 ;
王鹏飞 ;
马爱平 ;
王小伟 .
中国专利 :CN119322429B ,2025-02-28
[5]
一种负性光刻胶组合物及其制备方法与应用 [P]. 
葛学平 ;
洪性宰 ;
黄光锋 .
中国专利 :CN119916641A ,2025-05-02
[6]
一种用于光学引线键合的光刻胶及其制备方法 [P]. 
骆志军 ;
姜瑾 ;
甘棕松 ;
孙文娟 ;
许茱棣 .
中国专利 :CN117970747A ,2024-05-03
[7]
负性光刻胶组合物及应用 [P]. 
赵呈 ;
吕亮 ;
何俊 .
中国专利 :CN120215210A ,2025-06-27
[8]
KrF负性光刻胶及其制备方法、应用 [P]. 
周元基 .
中国专利 :CN113960881A ,2022-01-21
[9]
一种增强型负性光刻胶及其制备方法 [P]. 
冯芳华 ;
刘秋艳 .
中国专利 :CN118151491A ,2024-06-07
[10]
一种增强型负性光刻胶及其制备方法 [P]. 
冯芳华 ;
刘秋艳 .
中国专利 :CN118151491B ,2024-11-29
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