一种设有外延结构的氮化镓半导体器件

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202420522938.9
申请日
2024-03-18
公开(公告)号
CN221947138U
公开(公告)日
2024-11-01
发明(设计)人
郑继军 李唐波 李泽泽
申请人
深圳市华亿半导体有限公司
申请人地址
518000 广东省深圳市宝安区燕罗街道罗田社区象山大道462号3栋厂房201
IPC主分类号
H01L23/32
IPC分类号
H01L23/10 F16F15/08
代理机构
深圳市高智新知识产权代理事务所(普通合伙) 441060
代理人
黄丽娴
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种设有外延结构的氮化镓半导体器件 [P]. 
仇亮 .
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[3]
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刘美华 ;
刘岩军 .
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[4]
一种氮化镓外延层及半导体器件 [P]. 
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刘美华 ;
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[5]
生长氮化镓的方法、氮化镓外延结构及半导体器件 [P]. 
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[6]
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[7]
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[10]
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