触媒的カルボニル化活性を高めた立体修飾シッフ塩基リガンド[ja]

被引：0

申请号：

JP20240500225

申请日：

2022-07-07

公开(公告)号：

JP2024525250A

公开(公告)日：

2024-07-11

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B01J31/20

IPC分类号：

C07D305/12 C07F5/06

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共 50 条

[1]

エポキシドカルボニル化のための触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2017511303A ,2017-04-20

[2]

ポリ塩化ビニルを塩素化するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2018520237A ,2018-07-26

[3]

ヒドロキシカルボン酸安定型ジルコニウム修飾ニオブ酸ゾル[ja] [P].

GOTO YOSHINORI ;

TSUNEISHI TAKU ;

KURODA TAKETOSHI .

日本专利 :JP2025030931A ,2025-03-07

[4]

アシルフルオリド類およびカルボン酸塩類の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002026686A1 ,2004-02-05

[5]

ビス－フェニルフェノキシ金属－配位子錯体のためのヒドロカルビル修飾メチルアルミノキサン助触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2023537217A ,2023-08-31

[6]

ビス－フェニルフェノキシ金属－配位子錯体のためのヒドロカルビル修飾メチルアルミノキサン共触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2024506482A ,2024-02-14

[7]

ビス－フェニルフェノキシ金属－配位子錯体のためのヒドロカルビル修飾メチルアルミノキサン共触媒[ja] [P].

日本专利 :JP2023541768A ,2023-10-04

[8]

Ｋｖ３カリウムチャネル活性化薬としてのアリールスルホニルチオフェンカルボキサミド及びアリールスルホニルフランカルボキサミド[ja] [P].

日本专利 :JP2022529663A ,2022-06-23

[9]

フルオロスルホニル基を含むイミド塩を調製するための方法[ja] [P].

日本专利 :JP2015536898A ,2015-12-24

[10]

ペンタフルオロスルファニルピリジル基含有ジアリールヨードニウム塩[ja] [P].

日本专利 :JPWO2017090305A1 ,2018-10-04

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