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一种新型AT膜层的制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411248484.1
申请日
:
2024-09-06
公开(公告)号
:
CN119040802A
公开(公告)日
:
2024-11-29
发明(设计)人
:
邓永琪
冯刚
秦振芳
乔军昌
申请人
:
苏州星蓝纳米技术有限公司
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市吴江区江陵街道茂源路8号
IPC主分类号
:
C23C14/02
IPC分类号
:
C23C14/34
C23C14/06
代理机构
:
苏州视界专利代理事务所(普通合伙) 32684
代理人
:
董燕
法律状态
:
公开
国省代码
:
江苏省 苏州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-29
公开
公开
2024-12-17
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/02申请日:20240906
共 50 条
[1]
一种柔性膜制作方法
[P].
朱磊
论文数:
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0
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0
朱磊
;
周健
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周健
;
张继凡
论文数:
0
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0
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张继凡
.
中国专利
:CN113463048A
,2021-10-01
[2]
一种新型藏纸及其制作方法
[P].
段丽
论文数:
0
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0
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0
机构:
汶川县水磨藏纸传奇文化创意设计工作室
汶川县水磨藏纸传奇文化创意设计工作室
段丽
.
中国专利
:CN117988151A
,2024-05-07
[3]
用于互连层结构的掩膜组件及互连层的制作方法
[P].
周鸣
论文数:
0
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0
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0
周鸣
.
中国专利
:CN105226049B
,2016-01-06
[4]
一种绝缘防潮层的制作方法
[P].
刘秀棉
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刘秀棉
;
王建斌
论文数:
0
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王建斌
;
陈田安
论文数:
0
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陈田安
;
解海华
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0
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0
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解海华
.
中国专利
:CN104312363A
,2015-01-28
[5]
一种FDSOI的锗硅层的制作方法
[P].
陈勇跃
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0
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
陈勇跃
;
洪佳琪
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
洪佳琪
;
颜强
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
颜强
;
谭俊
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
谭俊
;
周海锋
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
周海锋
;
成鑫华
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
成鑫华
;
方精训
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
方精训
.
中国专利
:CN113937055B
,2025-09-30
[6]
一种FDSOI的锗硅层的制作方法
[P].
陈勇跃
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陈勇跃
;
洪佳琪
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洪佳琪
;
颜强
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颜强
;
谭俊
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谭俊
;
周海锋
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周海锋
;
成鑫华
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成鑫华
;
方精训
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方精训
.
中国专利
:CN113937055A
,2022-01-14
[7]
一种水晶瓷粉的制作方法
[P].
汪洪伢
论文数:
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0
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汪洪伢
.
中国专利
:CN1126228A
,1996-07-10
[8]
栅极介电层的制作方法
[P].
苏国辉
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0
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苏国辉
;
陈逸男
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陈逸男
;
刘献文
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0
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刘献文
.
中国专利
:CN102760655A
,2012-10-31
[9]
闸介电层的制作方法
[P].
苏国辉
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0
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苏国辉
;
陈逸男
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陈逸男
;
刘献文
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0
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0
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0
刘献文
.
中国专利
:CN102760658A
,2012-10-31
[10]
一种新型晶体管的制作方法
[P].
刘程秀
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0
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0
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0
刘程秀
.
中国专利
:CN110620044A
,2019-12-27
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