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分散液、分散液の製造方法、エラストマー組成物の製造方法、および、高圧水素機器用ガスシール部材の製造方法[ja]

被引：0
申请号：
JP20230059508
申请日：
2023-03-31
公开(公告)号：
JP2024146538A
公开(公告)日：
2024-10-15
发明(设计)人：
SHINDO NATSUKO TAKEYAMA YOSHIHISA
申请人：
NIPPON ZEON CO
申请人地址：
IPC主分类号：
C09K3/10
IPC分类号：
C08K3/04 C08L9/02 C08L21/00 C08L23/16 C08L83/04 F16J15/10
代理机构：
代理人：
法律状态：
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
共 50 条
[1]
溶融ガラスの製造方法およびガラス製品の製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2013012040A1 ,2015-02-23
[2]
分散液、化粧料、分散液の製造方法[ja] [P]. 
KUBOTA ATSUKO ;
ITO TOMOMI .
日本专利 :JP2024051646A ,2024-04-11
[3]
研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2019088209A1 ,2020-06-11
[4]
研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023052035A ,2023-04-11
[5]
グラフェン分散液およびその製造方法、グラフェン−活物質複合体粒子の製造方法ならびに電極用ペーストの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP6152925B1 ,2017-06-28
[6]
グラフェン分散液およびその製造方法、グラフェン−活物質複合体粒子の製造方法ならびに電極用ペーストの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2017047523A1 ,2017-09-14
[7]
研磨液、分散体、研磨液の製造方法及び研磨方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2020246471A1 ,2021-12-09
[8]
結晶性ベーマイトスラリーおよびその製造方法[ja] [P]. 
SHINTAKU YASUSHI ;
HASEGAWA TATSUAKI ;
HASEGAWA HIROKI ;
MIZUNO TAKAYOSHI .
日本专利 :JP2024093596A ,2024-07-09
[9]
多層エマルションの製造方法、及びカプセルの製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JP5801974B1 ,2015-10-28
[10]
凝集剤組成物およびその製造方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2008015769A1 ,2009-12-17
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