半导体结构及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201910459891.X
申请日
2019-05-30
公开(公告)号
CN112018163B
公开(公告)日
2024-10-29
发明(设计)人
赵猛
申请人
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请人地址
201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号
IPC主分类号
H01L29/06
IPC分类号
H01L21/336 H01L29/78
代理机构
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327
代理人
高静;李丽
法律状态
授权
国省代码
上海市
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN112017962B ,2025-05-27
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN112309845A ,2021-02-02
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN111554635A ,2020-08-18
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN112017962A ,2020-12-01
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN112018163A ,2020-12-01
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN110718464A ,2020-01-21
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN111293118A ,2020-06-16
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
李勇 ;
林仰魁 .
中国专利 :CN108695253A ,2018-10-23
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN107180861B ,2017-09-19
[10]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN111725313B ,2024-06-25