半导体结构及其形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201810762890.8
申请日
2018-07-12
公开(公告)号
CN110718464A
公开(公告)日
2020-01-21
发明(设计)人
赵猛
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2978 H01L21265 H01L29167
代理机构
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327
代理人
高静;李丽
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN112017962B ,2025-05-27
[2]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN111725313B ,2024-06-25
[3]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN112309845A ,2021-02-02
[4]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
魏琰 ;
宋化龙 ;
徐唯佳 .
中国专利 :CN108695258B ,2018-10-23
[5]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
周飞 .
中国专利 :CN111554635A ,2020-08-18
[6]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
王楠 .
中国专利 :CN117581381A ,2024-02-20
[7]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN112017962A ,2020-12-01
[8]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN112018163A ,2020-12-01
[9]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
金吉松 .
中国专利 :CN117374073A ,2024-01-09
[10]
半导体结构及其形成方法 [P]. 
赵猛 .
中国专利 :CN112018163B ,2024-10-29