正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410889235.4
申请日
2024-07-04
公开(公告)号
CN119002178A
公开(公告)日
2024-11-22
发明(设计)人
解德升 夏元玲 陈相见
申请人
湖北鼎龙芯盛科技有限公司 鼎龙(潜江)新材料有限公司 湖北鼎龙控股股份有限公司
申请人地址
430057 湖北省武汉市武汉经济技术开发区54MB地块(东荆河路1号)办公室507室
IPC主分类号
G03F7/004
IPC分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
法律状态
公开
国省代码
河南省 郑州市
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共 50 条
[1]
正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法 [P]. 
佐藤和史 ;
萩原三雄 ;
川名大助 .
中国专利 :CN100576076C ,2006-02-08
[2]
用于抗蚀剂的树脂、正性抗蚀剂组合物和形成抗蚀剂图案的方法 [P]. 
林亮太郎 ;
羽田英夫 ;
岩井武 .
中国专利 :CN1832971A ,2006-09-13
[3]
正性抗蚀剂组合物与抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
米村幸治 ;
中绪卓 .
中国专利 :CN1696831A ,2005-11-16
[4]
正型抗蚀剂组合物的制备方法、正型抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法 [P]. 
室井雅昭 ;
厚地浩太 ;
中村孝弘 ;
山田雅和 ;
最所贤介 .
中国专利 :CN101223479A ,2008-07-16
[5]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
砂道智成 ;
桥本阳奈 ;
平野智之 ;
中川裕介 .
日本专利 :CN118414582A ,2024-07-30
[6]
抗蚀剂组合物及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
平野智之 ;
砂道智成 ;
桥本阳奈 ;
中川裕介 .
日本专利 :CN118401895A ,2024-07-26
[7]
抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
平野智之 ;
米村幸治 ;
中川裕介 .
中国专利 :CN112987497A ,2021-06-18
[8]
抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
中村刚 ;
铃木阳介 ;
李俊烨 .
中国专利 :CN112654926A ,2021-04-13
[9]
正型抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法 [P]. 
染谷和也 ;
山口敏弘 ;
青木知三郎 .
中国专利 :CN102650830B ,2012-08-29
[10]
抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法 [P]. 
熊田信次 ;
前盛谕 ;
新井雅俊 ;
盐野大寿 .
中国专利 :CN102621807A ,2012-08-01