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用于重叠的测量模式

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202180032424.4
申请日：
2021-05-17
公开(公告)号：
CN115552228B
公开(公告)日：
2024-10-18
发明(设计)人：
A·玛纳森 A·V·希尔 G·拉雷多
申请人：
科磊股份有限公司
申请人地址：
美国加利福尼亚州
IPC主分类号：
G01N21/956
IPC分类号：
G01N21/88 G01N21/47 G01N21/59 G06T7/00
代理机构：
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287
代理人：
刘丽楠
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2024-10-18 授权 授权
共 50 条
[1]
用于重叠的测量模式 [P]. 
A·玛纳森 ;
A·V·希尔 ;
G·拉雷多 .
中国专利 :CN115552228A ,2022-12-30
[2]
重叠测量系统以及重叠测量装置 [P]. 
椙江政贵 ;
酒井计 .
中国专利 :CN114303039A ,2022-04-08
[3]
重叠测量系统以及重叠测量装置 [P]. 
椙江政贵 ;
酒井计 .
日本专利 :CN114303039B ,2024-01-09
[4]
用于晶片重叠测量的片上传感器 [P]. 
M·斯维拉姆 ;
S·鲁 ;
T·M·T·A·M·埃拉扎雷 ;
A·J·登博夫 .
:CN114303100B ,2024-07-26
[5]
用于晶片重叠测量的片上传感器 [P]. 
M·斯维拉姆 ;
S·鲁 ;
T·M·T·A·M·埃拉扎雷 ;
A·J·登博夫 .
中国专利 :CN114303100A ,2022-04-08
[6]
用于晶片重叠测量的片上传感器 [P]. 
M·斯维拉姆 ;
S·鲁 ;
T·M·T·A·M·埃拉扎雷 ;
A·J·登博夫 .
中国专利 :CN118732413A ,2024-10-01
[7]
重叠测量设备、光刻设备和使用这种重叠测量设备的器件制造方法 [P]. 
A·邓鲍夫 .
中国专利 :CN102067040A ,2011-05-18
[8]
灰色模式扫描散射测量叠对计量 [P]. 
A·玛纳森 ;
A·V·希尔 .
美国专利 :CN115943350B ,2024-04-09
[9]
单垫式重叠测量 [P]. 
胡翔 ;
M·范德斯卡 ;
O·V·兹维尔 ;
帕特里克·华纳 ;
H·W·M·范布尔 .
:CN119156571A ,2024-12-17
[10]
用于辅助包装的重叠处理设备 [P]. 
熊菊莲 .
中国专利 :CN203461180U ,2014-03-05
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