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重叠测量系统以及重叠测量装置
被引:0
申请号
:
CN201980099625.9
申请日
:
2019-08-23
公开(公告)号
:
CN114303039A
公开(公告)日
:
2022-04-08
发明(设计)人
:
椙江政贵
酒井计
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G01B1500
IPC分类号
:
G01N23203
G01N232206
G01N232251
H01J3722
H01L2166
代理机构
:
北京银龙知识产权代理有限公司 11243
代理人
:
许静;范胜杰
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-08
公开
公开
共 50 条
[1]
重叠测量系统以及重叠测量装置
[P].
椙江政贵
论文数:
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
椙江政贵
;
酒井计
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机构:
株式会社日立高新技术
株式会社日立高新技术
酒井计
.
日本专利
:CN114303039B
,2024-01-09
[2]
重叠量测量装置和重叠量测量方法
[P].
塚本高弘
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0
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0
塚本高弘
.
中国专利
:CN106662429A
,2017-05-10
[3]
单垫式重叠测量
[P].
胡翔
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
胡翔
;
M·范德斯卡
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
M·范德斯卡
;
O·V·兹维尔
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
O·V·兹维尔
;
帕特里克·华纳
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ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
帕特里克·华纳
;
H·W·M·范布尔
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
H·W·M·范布尔
.
:CN119156571A
,2024-12-17
[4]
用于重叠的测量模式
[P].
A·玛纳森
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机构:
科磊股份有限公司
科磊股份有限公司
A·玛纳森
;
A·V·希尔
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机构:
科磊股份有限公司
科磊股份有限公司
A·V·希尔
;
G·拉雷多
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机构:
科磊股份有限公司
科磊股份有限公司
G·拉雷多
.
美国专利
:CN115552228B
,2024-10-18
[5]
用于重叠的测量模式
[P].
A·玛纳森
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A·玛纳森
;
A·V·希尔
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A·V·希尔
;
G·拉雷多
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G·拉雷多
.
中国专利
:CN115552228A
,2022-12-30
[6]
晶片配准及重叠测量系统以及有关方法
[P].
N·A·米林
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N·A·米林
;
R·登比
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R·登比
;
R·T·豪斯利
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R·T·豪斯利
;
张晓松
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张晓松
;
J·D·哈姆斯
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J·D·哈姆斯
;
S·J·克拉梅尔
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S·J·克拉梅尔
.
中国专利
:CN110879510B
,2020-03-13
[7]
晶片配准及重叠测量系统以及有关方法
[P].
N·A·米林
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N·A·米林
;
R·登比
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R·登比
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R·T·豪斯利
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R·T·豪斯利
;
张晓松
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张晓松
;
J·D·哈姆斯
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J·D·哈姆斯
;
S·J·克拉梅尔
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S·J·克拉梅尔
.
中国专利
:CN113589663A
,2021-11-02
[8]
多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统
[P].
D·坎戴尔
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D·坎戴尔
;
V·列文斯基
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V·列文斯基
;
G·科恩
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G·科恩
.
中国专利
:CN103038861B
,2013-04-10
[9]
多层重叠计量标靶和互补式重叠计量测量系统
[P].
D·坎戴尔
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D·坎戴尔
;
V·列文斯基
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V·列文斯基
;
G·科恩
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G·科恩
.
中国专利
:CN105759570B
,2016-07-13
[10]
晶片配准及重叠测量系统以及有关方法
[P].
N·A·米林
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
N·A·米林
;
R·登比
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美光科技公司
美光科技公司
R·登比
;
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美光科技公司
美光科技公司
R·T·豪斯利
;
张晓松
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美光科技公司
美光科技公司
张晓松
;
J·D·哈姆斯
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美光科技公司
J·D·哈姆斯
;
S·J·克拉梅尔
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
S·J·克拉梅尔
.
美国专利
:CN113589663B
,2024-06-28
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