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氧化镓异质外延薄膜的制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411354861.X
申请日
:
2024-09-27
公开(公告)号
:
CN118867059A
公开(公告)日
:
2024-10-29
发明(设计)人
:
张海
牛鼎元
赵学平
崔晓明
杨俊彪
刘全龙
申请人
:
内蒙古工业大学
申请人地址
:
010051 内蒙古自治区呼和浩特市新城区爱民街49号
IPC主分类号
:
H01L31/18
IPC分类号
:
H01L31/032
H01L21/02
代理机构
:
西安迪业欣知识产权代理事务所(普通合伙) 61278
代理人
:
史冬梅
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
内蒙古自治区 呼和浩特市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-11-15
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 31/18申请日:20240927
2024-10-29
公开
公开
2024-12-06
授权
授权
共 50 条
[1]
氧化镓异质外延薄膜的制备方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
张海
;
牛鼎元
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机构:
内蒙古工业大学
内蒙古工业大学
牛鼎元
;
论文数:
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机构:
赵学平
;
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机构:
崔晓明
;
杨俊彪
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0
机构:
内蒙古工业大学
内蒙古工业大学
杨俊彪
;
论文数:
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机构:
刘全龙
.
中国专利
:CN118867059B
,2024-12-06
[2]
氧化镓外延薄膜及生长氧化镓外延薄膜的方法
[P].
修向前
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修向前
;
许万里
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许万里
;
施佳诚
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施佳诚
;
李悦文
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李悦文
;
谢自力
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谢自力
;
张荣
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张荣
;
郑有炓
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郑有炓
.
中国专利
:CN112420491A
,2021-02-26
[3]
氧化镓晶体及其异质外延方法
[P].
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机构:
张逸韵
;
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机构:
姚然
;
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机构:
杨华
;
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机构:
伊晓燕
;
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机构:
王军喜
.
中国专利
:CN118374877B
,2025-07-18
[4]
氧化镓晶体及其异质外延方法
[P].
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机构:
张逸韵
;
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机构:
姚然
;
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机构:
杨华
;
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机构:
伊晓燕
;
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机构:
王军喜
.
中国专利
:CN118374877A
,2024-07-23
[5]
一种氧化镓异质外延衬底及其制备方法
[P].
杨世凌
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机构:
中国科学院半导体研究所
中国科学院半导体研究所
杨世凌
;
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机构:
张逸韵
;
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机构:
姚然
;
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机构:
杨华
;
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机构:
伊晓燕
;
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机构:
王军喜
.
中国专利
:CN120199682A
,2025-06-24
[6]
n型锗掺杂的氧化镓外延薄膜制备方法及氧化镓外延片
[P].
王宏伟
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机构:
深圳麒磷晶源半导体有限公司
深圳麒磷晶源半导体有限公司
王宏伟
;
吕建华
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机构:
深圳麒磷晶源半导体有限公司
深圳麒磷晶源半导体有限公司
吕建华
;
张晗
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机构:
深圳麒磷晶源半导体有限公司
深圳麒磷晶源半导体有限公司
张晗
.
中国专利
:CN121237645A
,2025-12-30
[7]
氧化镓薄膜及其异质外延生长方法与应用
[P].
张晓东
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0
张晓东
;
马永健
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马永健
;
李军帅
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李军帅
;
张宝顺
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张宝顺
.
中国专利
:CN112490112A
,2021-03-12
[8]
一种异质外延氧化镓晶体管及制备方法
[P].
韩根全
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机构:
西安电子科技大学杭州研究院
西安电子科技大学杭州研究院
韩根全
;
王轶博
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机构:
西安电子科技大学杭州研究院
西安电子科技大学杭州研究院
王轶博
;
於春晓
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机构:
西安电子科技大学杭州研究院
西安电子科技大学杭州研究院
於春晓
.
中国专利
:CN119133249A
,2024-12-13
[9]
一种氧化镓薄膜及其异质外延生长方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
程再军
;
论文数:
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机构:
罗杭
;
论文数:
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机构:
郭榕榕
;
论文数:
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机构:
郑荣升
;
论文数:
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机构:
杨宇霖
.
中国专利
:CN118645423A
,2024-09-13
[10]
一种高质量氧化镓外延薄膜的制备方法及氧化镓薄膜
[P].
岳建英
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机构:
北京镓创半导体材料有限公司
北京镓创半导体材料有限公司
岳建英
;
李培刚
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机构:
北京镓创半导体材料有限公司
北京镓创半导体材料有限公司
李培刚
;
李胜鹏
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机构:
北京镓创半导体材料有限公司
北京镓创半导体材料有限公司
李胜鹏
.
中国专利
:CN121046937A
,2025-12-02
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