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リソグラフィマスクをエッチングするための方法および装置[ja]
被引:0
申请号
:
JP20230507771
申请日
:
2021-08-06
公开(公告)号
:
JP2023537352A
公开(公告)日
:
2023-08-31
发明(设计)人
:
申请人
:
申请人地址
:
IPC主分类号
:
G03F1/74
IPC分类号
:
G03F1/24
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
共 50 条
[1]
プラスチック基材をコーティングするための方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2017528306A
,2017-09-28
[2]
エッチング装置およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2010103939A1
,2012-09-13
[3]
EUVリソグラフィ用反射層付基板、およびEUVリソグラフィ用反射型マスクブランク[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2012014904A1
,2013-09-12
[4]
EUVリソグラフィのための膜[ja]
[P].
日本专利
:JP2018536902A
,2018-12-13
[5]
EUVリソグラフィのための膜[ja]
[P].
日本专利
:JP2023021245A
,2023-02-10
[6]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2009136558A1
,2011-09-08
[7]
ドライエッチングガスおよびドライエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2005117082A1
,2008-04-03
[8]
ドライエッチングガスおよびドライエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002021586A1
,2004-01-15
[9]
ドライエッチングガスおよびドライエッチング方法[ja]
[P].
日本专利
:JPWO2002039494A1
,2004-03-18
[10]
極紫外線リソグラフィのための組成物および関連する方法[ja]
[P].
日本专利
:JP2025528942A
,2025-09-02
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