リソグラフィマスクをエッチングするための方法および装置[ja]

被引:0
申请号
JP20230507771
申请日
2021-08-06
公开(公告)号
JP2023537352A
公开(公告)日
2023-08-31
发明(设计)人
申请人
申请人地址
IPC主分类号
G03F1/74
IPC分类号
G03F1/24
代理机构
代理人
法律状态
国省代码
引用
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共 50 条
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[2]
エッチング装置およびエッチング方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2010103939A1 ,2012-09-13
[4]
EUVリソグラフィのための膜[ja] [P]. 
日本专利 :JP2018536902A ,2018-12-13
[5]
EUVリソグラフィのための膜[ja] [P]. 
日本专利 :JP2023021245A ,2023-02-10
[6]
シリコンエッチング液およびエッチング方法[ja] [P]. 
日本专利 :JPWO2009136558A1 ,2011-09-08
[7]
[8]
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