具有掺杂的源极/漏极区的半导体器件

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202410236361.X
申请日
2024-03-01
公开(公告)号
CN119108426A
公开(公告)日
2024-12-10
发明(设计)人
南勇准 金真范 李商文 金傔 金孝珍 李泰衡 黄仁建
申请人
三星电子株式会社
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
H01L29/78
IPC分类号
H01L29/08
代理机构
北京市立方律师事务所 11330
代理人
李娜;王凯霞
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
包括源极/漏极区的半导体器件 [P]. 
张星旭 ;
李承勳 ;
郑秀珍 ;
曺荣大 .
韩国专利 :CN111192923B ,2024-11-12
[2]
包括源极/漏极区的半导体器件 [P]. 
张星旭 ;
李承勳 ;
郑秀珍 ;
曺荣大 .
中国专利 :CN111192923A ,2020-05-22
[3]
具有无尖端外延源极/漏极区的半导体器件 [P]. 
M·T·博尔 .
中国专利 :CN101681842A ,2010-03-24
[4]
具有各种形状的源极/漏极图案的半导体器件 [P]. 
刘贤琯 ;
崔珉姬 .
中国专利 :CN110600551A ,2019-12-20
[5]
半导体器件的源极/漏极结构 [P]. 
萧颖 .
中国专利 :CN104051532B ,2014-09-17
[6]
具有非对称源极/漏极的半导体器件 [P]. 
郑钟基 ;
姜明一 ;
金伦楷 ;
李宽钦 .
中国专利 :CN106158969A ,2016-11-23
[7]
具有非对称源极/漏极的半导体器件 [P]. 
郑钟基 ;
姜明一 ;
金伦楷 ;
李宽钦 .
中国专利 :CN107123685B ,2017-09-01
[8]
包括源极/漏极和栅极通道的半导体器件 [P]. 
何虹 ;
其哈森·郑 ;
王俊利 ;
殷允朋 .
中国专利 :CN105793968B ,2016-07-20
[9]
包括源极/漏极区上的双接触结构的半导体器件 [P]. 
李载泓 ;
金珍泰 ;
徐康一 ;
梁明 .
韩国专利 :CN119922972A ,2025-05-02
[10]
半导体器件的带空隙的源极/漏极结构 [P]. 
郭紫微 ;
吕惟皓 ;
温政彦 ;
游明华 ;
李启弘 .
中国专利 :CN120035172A ,2025-05-23