电化学机械抛光工艺、装置及生产线体

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411194710.2

申请日：

2024-08-28

公开(公告)号：

CN118848806A

公开(公告)日：

2024-10-29

发明(设计)人：

左晓磊杨亮王磊潘宏明张康

申请人：

北京晶亦精微科技股份有限公司

申请人地址：

100176 北京市大兴区经济技术开发区泰河三街1号2幢2层101

IPC主分类号：

B24B37/04

IPC分类号：

B24B37/10 B24B37/34

代理机构：

北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250

代理人：

刘家聪

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-11-15	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/04申请日:20240828
2024-10-29	公开	公开

共 50 条

[1]

电化学机械抛光控制方法及装置 [P].

汪以祥 ;

廖磊华 ;

郭称发 .

中国专利 :CN118531488B ,2025-02-21

[2]

电化学机械抛光控制方法及装置 [P].

汪以祥 ;

廖磊华 ;

郭称发 .

中国专利 :CN118531488A ,2024-08-23

[3]

电化学机械抛光装置 [P].

倪建明 .

中国专利 :CN105710761A ,2016-06-29

[4]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

李·M.·库克 ;

戴维·B.·詹姆斯 ;

约翰·V.·H·罗伯兹 .

中国专利 :CN100347825C ,2005-09-07

[5]

一种电化学机械抛光方法 [P].

杨亮 ;

王磊 ;

左晓磊 ;

张康 ;

李婷 .

中国专利 :CN117943966A ,2024-04-30

[6]

一种用于电化学机械抛光的抛光吸附盘机构及电化学机械抛光系统 [P].

朱自强 ;

杨渊思 .

中国专利 :CN120533612A ,2025-08-26

[7]

一种电化学机械抛光头及抛光装置 [P].

王子睿 ;

王永光 ;

刘庆升 ;

丁钊 ;

朱睿 ;

成锋 ;

师晓曼 ;

彭超 .

中国专利 :CN116423384B ,2024-06-21

[8]

一种电化学机械抛光装置及方法 [P].

梁小生 ;

彭云峰 ;

吴秀榕 ;

贺湘波 ;

万泓毅 ;

秦村 ;

彭冉 .

中国专利 :CN118143853A ,2024-06-07

[9]

一种电化学机械抛光设备 [P].

吴尚东 ;

史霄 ;

刘福强 ;

尹影 ;

李婷 .

中国专利 :CN119077609A ,2024-12-06

[10]

用于电化学机械抛光的抛光垫 [P].

J·G·埃米恩 ;

D·B·詹姆斯 .

中国专利 :CN100385631C ,2005-11-30

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