用于沉积薄膜的方法及设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411265247.6

申请日：

2024-09-10

公开(公告)号：

CN119162556A

公开(公告)日：

2024-12-20

发明(设计)人：

古加林郭华欣曹立春康宏方志豪

申请人：

重庆鹰谷光电股份有限公司

申请人地址：

400060 重庆市南岸区丹龙路7号E幢

IPC主分类号：

C23C14/54

IPC分类号：

C23C14/34 C23C14/06

代理机构：

北京润平知识产权代理有限公司 11283

代理人：

刘兵

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

重庆市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-01-07	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/54申请日:20240910
2025-03-11	发明专利申请公布后的撤回	发明专利申请公布后的撤回IPC(主分类):C23C 14/54申请公布日:20241220
2024-12-20	公开	公开

共 50 条

[1]

薄膜沉积设备及薄膜沉积设备的控制方法 [P].

刘洋 ;

任兴润 ;

何丹丹 ;

王婷 .

中国专利 :CN111411342B ,2020-07-14

[2]

加热盘、薄膜沉积设备及薄膜沉积方法 [P].

刘振 ;

吴凤丽 .

中国专利 :CN116970930B ,2025-09-05

[3]

用于沉积薄膜的设备和方法 [P].

郑石源 ;

李勇锡 ;

洪祥赫 .

中国专利 :CN103215559B ,2013-07-24

[4]

用于沉积薄膜的设备和方法 [P].

许明洙 ;

安宰弘 ;

韩尚辰 .

中国专利 :CN1952206B ,2007-04-25

[5]

薄膜沉积设备 [P].

李继刚 ;

芮祥新 ;

张国伟 ;

王彬 .

中国专利 :CN121046821A ,2025-12-02

[6]

用于沉积薄膜的方法及系统 [P].

李昇展 ;

陈昇照 ;

周正贤 ;

蔡正原 .

中国专利 :CN115491661A ,2022-12-20

[7]

一种气相沉积设备及沉积薄膜的方法 [P].

范荣伟 ;

林军 .

中国专利 :CN117795121A ,2024-03-29

[8]

加热盘、薄膜沉积设备及薄膜沉积设备组装方法 [P].

刘振 ;

吴凤丽 .

中国专利 :CN118360594A ,2024-07-19

[9]

薄膜沉积设备以及用其沉积薄膜的方法 [P].

韩政洹 .

中国专利 :CN103805941B ,2014-05-21

[10]

薄膜沉积设备和利用其沉积薄膜的方法 [P].

李侑钟 .

中国专利 :CN103572242A ,2014-02-12

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