用于沉积薄膜的设备和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310011551.3

申请日：

2013-01-11

公开(公告)号：

CN103215559B

公开(公告)日：

2013-07-24

发明(设计)人：

郑石源李勇锡洪祥赫

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C16455 C23C1422 C23C1412

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

韩明星;刘灿强

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-31	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101594306575 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2013100115513 申请日:20130111
2013-07-24	公开	公开
2017-04-26	授权	授权

共 50 条

[1]

薄膜沉积设备和利用其沉积薄膜的方法 [P].

李侑钟 .

中国专利 :CN103572242A ,2014-02-12

[2]

用于沉积薄膜的设备和方法 [P].

许明洙 ;

安宰弘 ;

韩尚辰 .

中国专利 :CN1952206B ,2007-04-25

[3]

薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P].

韩亚朋 ;

骆金龙 .

中国专利 :CN113430501A ,2021-09-24

[4]

薄膜沉积方法和薄膜沉积设备 [P].

张图 ;

杨依龙 .

中国专利 :CN115928034B ,2025-11-11

[5]

薄膜沉积方法和薄膜沉积设备 [P].

钱心嘉 .

中国专利 :CN117845181A ,2024-04-09

[6]

薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P].

朱瑞 ;

王馨悦 ;

贾兰 ;

王璐 ;

李疆琨 ;

李培培 ;

张腾 .

中国专利 :CN119663249A ,2025-03-21

[7]

薄膜沉积反应腔和薄膜沉积设备 [P].

王政 ;

柴雪 ;

李晶 ;

田云龙 .

中国专利 :CN117448789A ,2024-01-26

[8]

薄膜沉积反应腔和薄膜沉积设备 [P].

王政 ;

柴雪 ;

李晶 ;

田云龙 .

中国专利 :CN117448789B ,2025-04-18

[9]

用于薄膜沉积设备的进气结构和薄膜沉积设备 [P].

毛文瑞 .

中国专利 :CN120666315A ,2025-09-19

[10]

用于薄膜沉积设备的进气系统和薄膜沉积设备 [P].

袁凤宝 ;

张义明 .

中国专利 :CN120291064A ,2025-07-11

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