用于薄膜沉积设备的进气结构和薄膜沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510781878.1

申请日：

2025-06-11

公开(公告)号：

CN120666315A

公开(公告)日：

2025-09-19

发明(设计)人：

毛文瑞

申请人：

江苏微导纳米科技股份有限公司

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新吴区长江南路27号

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

代理机构：

北京正通英泽知识产权代理有限公司 16414

代理人：

杨雪

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省无锡市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-10	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20250611
2025-09-19	公开	公开

共 50 条

[1]

用于薄膜沉积设备的进气系统和薄膜沉积设备 [P].

袁凤宝 ;

张义明 .

中国专利 :CN120291064A ,2025-07-11

[2]

进气装置、薄膜沉积设备及薄膜沉积方法 [P].

张盈盈 .

中国专利 :CN117418216A ,2024-01-19

[3]

薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P].

韩亚朋 ;

骆金龙 .

中国专利 :CN113430501A ,2021-09-24

[4]

进气结构、反应腔室和薄膜沉积设备 [P].

王新征 ;

张宝戈 ;

周芸福 .

中国专利 :CN120536900A ,2025-08-26

[5]

薄膜沉积设备进气模块以及薄膜沉积设备 [P].

魏薇 ;

张赛谦 ;

刘振 ;

王婷 .

中国专利 :CN115747767B ,2025-06-03

[6]

薄膜沉积设备和薄膜沉积系统 [P].

姜敞晧 ;

权铉九 ;

玄在根 .

中国专利 :CN103097568A ,2013-05-08

[7]

薄膜沉积方法和薄膜沉积设备 [P].

张图 ;

杨依龙 .

中国专利 :CN115928034B ,2025-11-11

[8]

薄膜沉积方法和薄膜沉积设备 [P].

钱心嘉 .

中国专利 :CN117845181A ,2024-04-09

[9]

薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P].

朱瑞 ;

王馨悦 ;

贾兰 ;

王璐 ;

李疆琨 ;

李培培 ;

张腾 .

中国专利 :CN119663249A ,2025-03-21

[10]

进气结构和沉积设备 [P].

张麟 ;

欧文凯 ;

张东威 ;

申品文 .

中国专利 :CN223522662U ,2025-11-07

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