薄膜沉积设备和薄膜沉积系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201080067349.7
申请日
2010-06-14
公开(公告)号
CN103097568A
公开(公告)日
2013-05-08
发明(设计)人
姜敞晧 权铉九 玄在根
申请人
申请人地址
韩国首尔
IPC主分类号
C23C1424
IPC分类号
H01L5156
代理机构
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
党晓林;王小东
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
薄膜沉积系统和薄膜沉积方法 [P]. 
赵炳夏 ;
徐廷和 ;
金泰亨 ;
徐东均 ;
曹洙一 .
中国专利 :CN102102195A ,2011-06-22
[2]
薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P]. 
韩亚朋 ;
骆金龙 .
中国专利 :CN113430501A ,2021-09-24
[3]
薄膜沉积方法和薄膜沉积设备 [P]. 
张图 ;
杨依龙 .
中国专利 :CN115928034B ,2025-11-11
[4]
薄膜沉积方法和薄膜沉积设备 [P]. 
钱心嘉 .
中国专利 :CN117845181A ,2024-04-09
[5]
薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P]. 
朱瑞 ;
王馨悦 ;
贾兰 ;
王璐 ;
李疆琨 ;
李培培 ;
张腾 .
中国专利 :CN119663249A ,2025-03-21
[6]
薄膜沉积反应腔和薄膜沉积设备 [P]. 
王政 ;
柴雪 ;
李晶 ;
田云龙 .
中国专利 :CN117448789A ,2024-01-26
[7]
薄膜沉积反应腔和薄膜沉积设备 [P]. 
王政 ;
柴雪 ;
李晶 ;
田云龙 .
中国专利 :CN117448789B ,2025-04-18
[8]
薄膜沉积设备和利用其沉积薄膜的方法 [P]. 
李侑钟 .
中国专利 :CN103572242A ,2014-02-12
[9]
薄膜沉积设备 [P]. 
单洪青 ;
张迎春 ;
李沅民 .
中国专利 :CN102021537A ,2011-04-20
[10]
薄膜沉积装置、薄膜沉积方法及薄膜沉积设备 [P]. 
朱志君 ;
王晖 ;
金京俊 .
中国专利 :CN120193262A ,2025-06-24