薄膜沉积方法和薄膜沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202211673888.6

申请日：

2022-12-26

公开(公告)号：

CN115928034B

公开(公告)日：

2025-11-11

发明(设计)人：

张图杨依龙

申请人：

北京北方华创微电子装备有限公司

申请人地址：

100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/02 C23C14/16 C23C14/54 C23C14/56

代理机构：

北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人：

彭瑞欣;王婷

法律状态：

授权

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-11	授权	授权

共 50 条

[1]

薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P].

韩亚朋 ;

骆金龙 .

中国专利 :CN113430501A ,2021-09-24

[2]

薄膜沉积方法和薄膜沉积设备 [P].

钱心嘉 .

中国专利 :CN117845181A ,2024-04-09

[3]

薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P].

朱瑞 ;

王馨悦 ;

贾兰 ;

王璐 ;

李疆琨 ;

李培培 ;

张腾 .

中国专利 :CN119663249A ,2025-03-21

[4]

薄膜沉积设备和薄膜沉积系统 [P].

姜敞晧 ;

权铉九 ;

玄在根 .

中国专利 :CN103097568A ,2013-05-08

[5]

薄膜沉积装置、薄膜沉积方法及薄膜沉积设备 [P].

朱志君 ;

王晖 ;

金京俊 .

中国专利 :CN120193262A ,2025-06-24

[6]

薄膜沉积设备、薄膜沉积方法和显示面板 [P].

徐莉萍 .

中国专利 :CN120666309A ,2025-09-19

[7]

薄膜沉积系统和薄膜沉积方法 [P].

赵炳夏 ;

徐廷和 ;

金泰亨 ;

徐东均 ;

曹洙一 .

中国专利 :CN102102195A ,2011-06-22

[8]

薄膜沉积设备及薄膜沉积方法 [P].

林俊成 .

中国专利 :CN112442683A ,2021-03-05

[9]

薄膜沉积方法及薄膜沉积设备 [P].

骆金龙 .

中国专利 :CN113718219A ,2021-11-30

[10]

薄膜沉积设备及薄膜沉积方法 [P].

许波 ;

曹立新 ;

范慧 ;

朱北沂 .

中国专利 :CN103103480A ,2013-05-15

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