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薄膜沉积设备和薄膜沉积方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110676342.5
申请日
:
2021-06-18
公开(公告)号
:
CN113430501A
公开(公告)日
:
2021-09-24
发明(设计)人
:
韩亚朋
骆金龙
申请人
:
申请人地址
:
430014 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道999号未来科技城海外人才大楼A座18楼242室
IPC主分类号
:
C23C16455
IPC分类号
:
C23C1652
代理机构
:
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270
代理人
:
徐雯;张颖玲
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-15
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20210618
2021-09-24
公开
公开
共 50 条
[1]
薄膜沉积方法和薄膜沉积设备
[P].
张图
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
张图
;
杨依龙
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机构:
北京北方华创微电子装备有限公司
北京北方华创微电子装备有限公司
杨依龙
.
中国专利
:CN115928034B
,2025-11-11
[2]
薄膜沉积方法和薄膜沉积设备
[P].
钱心嘉
论文数:
0
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0
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0
机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
钱心嘉
.
中国专利
:CN117845181A
,2024-04-09
[3]
薄膜沉积设备和薄膜沉积方法
[P].
朱瑞
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机构:
拓荆科技(上海)有限公司
拓荆科技(上海)有限公司
朱瑞
;
王馨悦
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机构:
拓荆科技(上海)有限公司
拓荆科技(上海)有限公司
王馨悦
;
贾兰
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机构:
拓荆科技(上海)有限公司
拓荆科技(上海)有限公司
贾兰
;
王璐
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机构:
拓荆科技(上海)有限公司
拓荆科技(上海)有限公司
王璐
;
李疆琨
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机构:
拓荆科技(上海)有限公司
拓荆科技(上海)有限公司
李疆琨
;
李培培
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机构:
拓荆科技(上海)有限公司
拓荆科技(上海)有限公司
李培培
;
张腾
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机构:
拓荆科技(上海)有限公司
拓荆科技(上海)有限公司
张腾
.
中国专利
:CN119663249A
,2025-03-21
[4]
薄膜沉积设备和薄膜沉积系统
[P].
姜敞晧
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姜敞晧
;
权铉九
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权铉九
;
玄在根
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玄在根
.
中国专利
:CN103097568A
,2013-05-08
[5]
薄膜沉积装置、薄膜沉积方法及薄膜沉积设备
[P].
朱志君
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
朱志君
;
王晖
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
王晖
;
金京俊
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
金京俊
.
中国专利
:CN120193262A
,2025-06-24
[6]
薄膜沉积设备、薄膜沉积方法和显示面板
[P].
徐莉萍
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机构:
合肥维信诺科技有限公司
合肥维信诺科技有限公司
徐莉萍
.
中国专利
:CN120666309A
,2025-09-19
[7]
薄膜沉积系统和薄膜沉积方法
[P].
赵炳夏
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赵炳夏
;
徐廷和
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徐廷和
;
金泰亨
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金泰亨
;
徐东均
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徐东均
;
曹洙一
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曹洙一
.
中国专利
:CN102102195A
,2011-06-22
[8]
薄膜沉积设备及薄膜沉积方法
[P].
林俊成
论文数:
0
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0
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林俊成
.
中国专利
:CN112442683A
,2021-03-05
[9]
薄膜沉积方法及薄膜沉积设备
[P].
骆金龙
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0
骆金龙
.
中国专利
:CN113718219A
,2021-11-30
[10]
薄膜沉积设备及薄膜沉积方法
[P].
许波
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许波
;
曹立新
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曹立新
;
范慧
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范慧
;
朱北沂
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朱北沂
.
中国专利
:CN103103480A
,2013-05-15
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