薄膜沉积方法和薄膜沉积设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311863794.X
申请日
2023-12-29
公开(公告)号
CN117845181A
公开(公告)日
2024-04-09
发明(设计)人
钱心嘉
申请人
杭州富芯半导体有限公司
申请人地址
311418 浙江省杭州市富阳区灵桥镇滨富大道135号(滨富合作区)
IPC主分类号
C23C14/50
IPC分类号
C23C14/56 C23C14/54
代理机构
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
丁俊萍
法律状态
实质审查的生效
国省代码
浙江省 杭州市
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共 50 条
[1]
薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P]. 
韩亚朋 ;
骆金龙 .
中国专利 :CN113430501A ,2021-09-24
[2]
薄膜沉积方法和薄膜沉积设备 [P]. 
张图 ;
杨依龙 .
中国专利 :CN115928034B ,2025-11-11
[3]
薄膜沉积设备和薄膜沉积方法 [P]. 
朱瑞 ;
王馨悦 ;
贾兰 ;
王璐 ;
李疆琨 ;
李培培 ;
张腾 .
中国专利 :CN119663249A ,2025-03-21
[4]
薄膜沉积设备和薄膜沉积系统 [P]. 
姜敞晧 ;
权铉九 ;
玄在根 .
中国专利 :CN103097568A ,2013-05-08
[5]
薄膜沉积装置、薄膜沉积方法及薄膜沉积设备 [P]. 
朱志君 ;
王晖 ;
金京俊 .
中国专利 :CN120193262A ,2025-06-24
[6]
薄膜沉积设备、薄膜沉积方法和显示面板 [P]. 
徐莉萍 .
中国专利 :CN120666309A ,2025-09-19
[7]
薄膜沉积系统和薄膜沉积方法 [P]. 
赵炳夏 ;
徐廷和 ;
金泰亨 ;
徐东均 ;
曹洙一 .
中国专利 :CN102102195A ,2011-06-22
[8]
薄膜沉积设备及薄膜沉积方法 [P]. 
林俊成 .
中国专利 :CN112442683A ,2021-03-05
[9]
薄膜沉积方法及薄膜沉积设备 [P]. 
骆金龙 .
中国专利 :CN113718219A ,2021-11-30
[10]
薄膜沉积设备及薄膜沉积方法 [P]. 
许波 ;
曹立新 ;
范慧 ;
朱北沂 .
中国专利 :CN103103480A ,2013-05-15