进气结构和沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202422746113.8

申请日：

2024-11-12

公开(公告)号：

CN223522662U

公开(公告)日：

2025-11-07

发明(设计)人：

张麟欧文凯张东威申品文

申请人：

江门普乐开瑞太阳能科技有限公司

申请人地址：

529100 广东省江门市新会区大泽镇新会智造产业园大泽园区305号

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/52 H10F71/00

代理机构：

华进联合专利商标代理有限公司 44224

代理人：

黄滔

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-07	授权	授权

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备的进气结构、进气方法及设备 [P].

商家强 .

中国专利 :CN111394789A ,2020-07-10

[2]

用于薄膜沉积设备的进气结构和薄膜沉积设备 [P].

毛文瑞 .

中国专利 :CN120666315A ,2025-09-19

[3]

进气结构、反应腔室和薄膜沉积设备 [P].

王新征 ;

张宝戈 ;

周芸福 .

中国专利 :CN120536900A ,2025-08-26

[4]

进气结构及半导体沉积设备 [P].

张文强 ;

赵雷超 ;

史小平 ;

兰云峰 ;

秦海丰 ;

纪红 .

中国专利 :CN112795905B ,2021-05-14

[5]

低压化学气相沉积的进气结构及气相沉积设备 [P].

刘倩 ;

郁寅珑 ;

付少剑 ;

王钰 ;

王泊温 .

中国专利 :CN218146928U ,2022-12-27

[6]

进气结构和汽车 [P].

罗宏锦 ;

张帆 ;

黄晓珍 .

中国专利 :CN213510961U ,2021-06-22

[7]

原子层沉积设备的混气结构、进气装置及原子层沉积方法 [P].

张璞 ;

刘亚男 ;

李靖 .

中国专利 :CN119615121A ,2025-03-14

[8]

进气结构和反应炉 [P].

高晓畅 ;

毛文龙 ;

梁笑 ;

张武 .

中国专利 :CN222182432U ,2024-12-17

[9]

一种化学气相沉积设备的进气结构及化学气相沉积设备 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN118653135A ,2024-09-17

[10]

一种化学气相沉积设备的进气结构及化学气相沉积设备 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN118653135B ,2025-05-27

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