原子层沉积设备的混气结构、进气装置及原子层沉积方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411892104.8
申请日
2024-12-20
公开(公告)号
CN119615121A
公开(公告)日
2025-03-14
发明(设计)人
张璞 刘亚男 李靖
申请人
宸微设备科技(苏州)有限公司
申请人地址
215299 江苏省苏州市吴江区江陵街道芦荡路228号
IPC主分类号
C23C16/455
IPC分类号
代理机构
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327
代理人
何志婧;张雪琴
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
原子层沉积设备的进气装置及原子层沉积设备 [P]. 
张璞 ;
刘亚男 ;
李靖 .
中国专利 :CN223561687U ,2025-11-18
[2]
原子层沉积设备的进气装置及原子层沉积设备 [P]. 
纪红 ;
赵培洋 ;
赵可可 .
中国专利 :CN113416945A ,2021-09-21
[3]
原子层沉积设备 [P]. 
曹建伟 ;
朱凌锋 ;
刘海博 ;
陈培杰 ;
罗丹 ;
张华敏 ;
胡汉彦 .
中国专利 :CN222008037U ,2024-11-15
[4]
原子层沉积设备及原子层沉积喷淋装置 [P]. 
邵大立 ;
齐彪 ;
马敬忠 .
中国专利 :CN115404463A ,2022-11-29
[5]
原子层沉积方法和原子层沉积设备 [P]. 
古尔特基·S·桑赫 ;
特鲁格·特里·多恩 .
中国专利 :CN100346448C ,2005-10-26
[6]
用于原子层沉积工艺的进气装置及原子层沉积装置 [P]. 
魏景峰 ;
荣延栋 ;
傅新宇 .
中国专利 :CN209292476U ,2019-08-23
[7]
用于原子层沉积工艺的进气装置及原子层沉积装置 [P]. 
魏景峰 ;
荣延栋 ;
傅新宇 .
中国专利 :CN109306470A ,2019-02-05
[8]
原子层沉积的喷淋密封结构及原子层沉积设备 [P]. 
黄政 ;
刘劲麟 ;
倪永金 .
中国专利 :CN222631548U ,2025-03-18
[9]
原子层沉积用进气装置 [P]. 
张远昊 ;
宋广伟 ;
张小强 .
中国专利 :CN119220956B ,2025-07-18
[10]
原子层沉积用进气装置 [P]. 
张远昊 ;
宋广伟 ;
张小强 .
中国专利 :CN119220956A ,2024-12-31