基板处理装置和喷嘴

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710620301.8

申请日：

2017-07-26

公开(公告)号：

CN107658244B

公开(公告)日：

2024-12-13

发明(设计)人：

福岛刚史相浦一博伊藤规宏

申请人：

东京毅力科创株式会社

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-13	授权	授权

共 50 条

[1]

基板处理装置和喷嘴 [P].

福岛刚史 ;

相浦一博 ;

伊藤规宏 .

中国专利 :CN107658244A ,2018-02-02

[2]

基板处理装置和喷嘴 [P].

福岛刚史 ;

相浦一博 ;

伊藤规宏 .

中国专利 :CN207097787U ,2018-03-13

[3]

喷嘴、包括喷嘴的基板处理装置和基板处理方法 [P].

崔基勋 ;

朱润钟 ;

姜秉万 .

中国专利 :CN106206368A ,2016-12-07

[4]

基板处理方法、基板处理装置和流体喷嘴 [P].

奥谷学 ;

小林健司 ;

吉原直彦 .

中国专利 :CN105826219A ,2016-08-03

[5]

液体分配喷嘴和基板处理装置 [P].

崔炳斗 ;

柳杨烈 ;

吴东燮 ;

白惠斌 .

中国专利 :CN111077742A ,2020-04-28

[6]

基板处理装置、喷嘴以及基板处理方法 [P].

山下永二 ;

富藤幸雄 ;

羽方满之 .

中国专利 :CN104952765B ,2015-09-30

[7]

喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法 [P].

李俊镐 ;

吴昌石 .

中国专利 :CN103084290A ,2013-05-08

[8]

喷嘴及基板处理装置 [P].

根本脩平 ;

村元僚 ;

泽岛隼 ;

远藤亨 .

日本专利 :CN121219819A ,2025-12-26

[9]

狭缝喷嘴和基板处理装置 [P].

金慧敬 ;

申承源 .

韩国专利 :CN118268194A ,2024-07-02

[10]

细缝喷嘴和基板处理装置 [P].

池田文彦 ;

古村智之 ;

楫屋裕之 .

中国专利 :CN100400180C ,2005-09-21

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