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低折射率膜、层积体、光学元件、防风材料和显示装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202180014243.9
申请日
:
2021-02-01
公开(公告)号
:
CN115087889B
公开(公告)日
:
2025-02-18
发明(设计)人
:
日下哲
中村浩一郎
今井寿雄
田中裕之
申请人
:
日本板硝子株式会社
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
G02B1/111
IPC分类号
:
B32B27/20
G02B1/10
B32B7/023
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人
:
沈娥;褚瑶杨
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-18
授权
授权
共 50 条
[11]
光学层积体和图像显示装置
[P].
堀尾智之
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堀尾智之
;
恒川雅行
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恒川雅行
;
矶岛征一
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矶岛征一
;
山本佳奈
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山本佳奈
.
中国专利
:CN104024892B
,2014-09-03
[12]
光学层积体、显示面板和显示装置
[P].
藤田贤治
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藤田贤治
;
黑田刚志
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黑田刚志
.
中国专利
:CN111712739B
,2020-09-25
[13]
低折射率层和包含该低折射率层的减反射膜
[P].
金芙敬
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金芙敬
;
张影来
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张影来
;
张锡勋
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张锡勋
;
边真锡
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边真锡
.
中国专利
:CN107438778A
,2017-12-05
[14]
低折射率膜形成用固化性组合物、低折射率膜、光学器件及低折射率膜的制造方法
[P].
青山洋平
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
青山洋平
;
昆野健理
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
昆野健理
;
森莉纱子
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
森莉纱子
.
日本专利
:CN119472166A
,2025-02-18
[15]
层积体、显示装置和层积体用部件
[P].
胁田敬辅
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机构:
大日本印刷株式会社
大日本印刷株式会社
胁田敬辅
;
前田高德
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机构:
大日本印刷株式会社
大日本印刷株式会社
前田高德
;
和田阳介
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机构:
大日本印刷株式会社
大日本印刷株式会社
和田阳介
;
鹫尾淳司
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机构:
大日本印刷株式会社
大日本印刷株式会社
鹫尾淳司
;
七海真
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机构:
大日本印刷株式会社
大日本印刷株式会社
七海真
;
佐竹一义
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机构:
大日本印刷株式会社
大日本印刷株式会社
佐竹一义
.
日本专利
:CN119403675A
,2025-02-07
[16]
光学层积体、光学层积体的制造方法、偏振片和图像显示装置
[P].
江口淳哉
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江口淳哉
;
北村祐
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北村祐
;
市川友纪
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市川友纪
;
儿玉崇
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儿玉崇
.
中国专利
:CN102869506B
,2013-01-09
[17]
光学层积体、偏振片、显示面板和图像显示装置
[P].
江口淳哉
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江口淳哉
;
西村雅俊
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西村雅俊
;
高坂洋介
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高坂洋介
;
户部伸之
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户部伸之
;
鸟本将宏
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鸟本将宏
;
福田贵之
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福田贵之
;
葛原满广
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葛原满广
.
中国专利
:CN111602075B
,2020-08-28
[18]
光学层积体、偏振片、显示面板和图像显示装置
[P].
江口淳哉
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江口淳哉
;
西村雅俊
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西村雅俊
;
高坂洋介
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高坂洋介
;
户部伸之
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户部伸之
;
鸟本将宏
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鸟本将宏
;
福田贵之
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福田贵之
;
葛原满广
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葛原满广
.
中国专利
:CN114721080A
,2022-07-08
[19]
低折射率纳米材料减反射膜
[P].
刘永生
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刘永生
;
杨文华
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杨文华
.
中国专利
:CN101431110A
,2009-05-13
[20]
电气光学装置、膜状部件、层压膜、低折射率膜
[P].
宫泽贵士
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宫泽贵士
.
中国专利
:CN1319419C
,2003-06-11
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