部分耗尽绝缘体上硅半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411317164.7
申请日
2024-09-20
公开(公告)号
CN119364802A
公开(公告)日
2025-01-24
发明(设计)人
何正临 郭振强
申请人
华虹半导体(无锡)有限公司
申请人地址
214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号
IPC主分类号
H10D30/60
IPC分类号
H10D62/10 H10D30/01
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
赵薇
法律状态
实质审查的生效
国省代码
江苏省 无锡市
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共 50 条
[21]
“绝缘体上的硅”半导体装置及其制造方法 [P]. 
东贤一 ;
A·O·阿丹 .
中国专利 :CN1147003C ,1999-12-01
[22]
绝缘体上硅器件 [P]. 
李乐 .
中国专利 :CN102339836B ,2012-02-01
[23]
绝缘体上硅衬底和半导体集成电路器件 [P]. 
大窪宏明 ;
富留宫正之 ;
山本良太 ;
中柴康隆 .
中国专利 :CN1521840A ,2004-08-18
[24]
具有混合掺杂区的绝缘体上硅半导体器件 [P]. 
刘逸群 ;
杨超源 .
中国专利 :CN110556412A ,2019-12-10
[25]
SOI(绝缘体上硅)结构的半导体装置及其制造方法 [P]. 
大槻浩 ;
坚田满孝 ;
能登宣彦 ;
竹野博 ;
吉田和彦 .
中国专利 :CN101836281A ,2010-09-15
[26]
SOI(绝缘体上硅)结构的半导体装置及其制造方法 [P]. 
大槻浩 ;
坚田满孝 ;
能登宣彦 ;
竹野博 ;
吉田和彦 .
中国专利 :CN102637699B ,2012-08-15
[27]
阱注入方法、绝缘体上硅器件制造方法和绝缘体上硅器件 [P]. 
李乐 .
中国专利 :CN102737968A ,2012-10-17
[28]
绝缘体上硅射频器件及其制造方法 [P]. 
钟政 ;
李乐 .
中国专利 :CN103077950A ,2013-05-01
[29]
绝缘体上硅LDMOS器件及其制造方法 [P]. 
刘志博 ;
陈天 ;
肖莉 ;
陈华伦 .
中国专利 :CN121099651A ,2025-12-09
[30]
绝缘体上硅横向器件及其制造方法 [P]. 
刘腾 ;
何乃龙 ;
章文通 ;
宋华 ;
张志丽 ;
赵景川 ;
朱佳佳 .
中国专利 :CN117438461A ,2024-01-23