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部分耗尽绝缘体上硅半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411317164.7
申请日
:
2024-09-20
公开(公告)号
:
CN119364802A
公开(公告)日
:
2025-01-24
发明(设计)人
:
何正临
郭振强
申请人
:
华虹半导体(无锡)有限公司
申请人地址
:
214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号
IPC主分类号
:
H10D30/60
IPC分类号
:
H10D62/10
H10D30/01
代理机构
:
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
:
赵薇
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
江苏省 无锡市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-18
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10D 30/60申请日:20240920
2025-01-24
公开
公开
共 50 条
[41]
部分耗尽绝缘体上硅三极管结构
[P].
刘张李
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘张李
.
中国专利
:CN104362175A
,2015-02-18
[42]
全耗尽绝缘体上硅FDSOI晶圆及其制造方法
[P].
亨利·H·阿达姆松
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
广州诺尔光电科技有限公司
广州诺尔光电科技有限公司
亨利·H·阿达姆松
;
苗渊浩
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
广州诺尔光电科技有限公司
广州诺尔光电科技有限公司
苗渊浩
.
中国专利
:CN120547935A
,2025-08-26
[43]
稳定绝缘体基半导体器件的方法及绝缘体基半导体器件
[P].
新美宪一
论文数:
0
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0
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0
新美宪一
;
A·O·阿丹
论文数:
0
引用数:
0
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0
A·O·阿丹
.
中国专利
:CN1154191C
,2000-12-06
[44]
包含绝缘体上硅的半导体封装体
[P].
R.K.威廉斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
R.K.威廉斯
.
中国专利
:CN103890904A
,2014-06-25
[45]
绝缘体上硅器件
[P].
T·莱塔维克
论文数:
0
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T·莱塔维克
;
J·彼得鲁泽洛
论文数:
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0
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J·彼得鲁泽洛
.
中国专利
:CN1802753A
,2006-07-12
[46]
耐高压的绝缘体上的硅型半导体器件
[P].
上本康裕
论文数:
0
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上本康裕
;
山下胜重
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0
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山下胜重
;
三浦孝
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0
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三浦孝
.
中国专利
:CN1288264A
,2001-03-21
[47]
耐高压的绝缘体上的硅型半导体器件
[P].
上本康裕
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上本康裕
;
山下胜重
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0
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山下胜重
;
三浦孝
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0
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0
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三浦孝
.
中国专利
:CN1638146A
,2005-07-13
[48]
绝缘体上半导体元器件及其制造方法
[P].
陈晓亮
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陈晓亮
;
于绍欣
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于绍欣
;
陈天
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陈天
;
钱忠健
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钱忠健
;
金兴成
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金兴成
.
中国专利
:CN111009469A
,2020-04-14
[49]
全耗尽绝缘体上硅ESD保护器件及其制备方法
[P].
刘森
论文数:
0
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刘森
;
关宇轩
论文数:
0
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关宇轩
;
刘筱伟
论文数:
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刘筱伟
;
刘海彬
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刘海彬
;
史林森
论文数:
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0
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0
史林森
.
中国专利
:CN113571512B
,2021-10-29
[50]
具有绝缘体上硅区域和体区域的半导体装置及其制造方法
[P].
东笃志
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东笃志
;
幸山裕亮
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幸山裕亮
;
梅泽华织
论文数:
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梅泽华织
.
中国专利
:CN1307727C
,2004-06-16
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