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图形化基底的制备方法、图形化基底及半导体器件
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202310841787.3
申请日：
2023-07-10
公开(公告)号：
CN119317251A
公开(公告)日：
2025-01-14
发明(设计)人：
林源为
申请人：
北京北方华创微电子装备有限公司
申请人地址：
100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号：
H10H20/01
IPC分类号：
H10H20/82
代理机构：
北京思创毕升专利事务所 11218
代理人：
廉莉莉
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
安徽省
宣城市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-02-07 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H10H 20/01申请日:20230710 |
| 2025-01-14 | 公开 | 公开 |