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LED安装基板的制造方法、清洗液及清洗方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380051639.X
申请日
:
2023-07-03
公开(公告)号
:
CN119422465A
公开(公告)日
:
2025-02-11
发明(设计)人
:
松本展明
北川太一
小川敬典
近藤和纪
申请人
:
信越化学工业株式会社
申请人地址
:
日本东京千代田区丸之内一丁目4番1号(邮编:100-0005)
IPC主分类号
:
H10H20/01
IPC分类号
:
G09F9/00
G09F9/33
H10H20/85
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
马雯雯;黄健
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-02-28
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10H 20/01申请日:20230703
2025-02-11
公开
公开
共 50 条
[1]
清洗液及基板的清洗方法
[P].
吴朝逸
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
吴朝逸
;
和田幸久
论文数:
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机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
和田幸久
.
日本专利
:CN120113033A
,2025-06-06
[2]
基板清洗液、使用该基板清洗液清洗的基板的制造方法以及器件的制造方法
[P].
绢田贵史
论文数:
0
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0
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0
绢田贵史
;
长原达郎
论文数:
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长原达郎
;
堀场优子
论文数:
0
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0
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堀场优子
.
中国专利
:CN113227277B
,2021-08-06
[3]
清洗液及基板的清洗方法
[P].
吴朝逸
论文数:
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0
机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
吴朝逸
;
和田幸久
论文数:
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0
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0
机构:
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社
和田幸久
.
日本专利
:CN120113034A
,2025-06-06
[4]
清洗液、清洗设备以及安装基板的清洗方法
[P].
加茂芳幸
论文数:
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加茂芳幸
;
衣川胜
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衣川胜
.
中国专利
:CN105002014A
,2015-10-28
[5]
清洗液生成装置、清洗液生成方法、基板清洗装置及基板清洗方法
[P].
宫崎邦浩
论文数:
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宫崎邦浩
;
桧森洋辅
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桧森洋辅
;
林航之介
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林航之介
;
安部正泰
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安部正泰
.
中国专利
:CN103579055B
,2014-02-12
[6]
基板清洗液以及基板清洗方法
[P].
井田纯一
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井田纯一
;
永井达夫
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永井达夫
.
中国专利
:CN104871296B
,2015-08-26
[7]
玻璃基板水基清洗液及使用该清洗液清洗玻璃基板的方法
[P].
梁泽超
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梁泽超
.
中国专利
:CN108060024A
,2018-05-22
[8]
玻璃基板水基清洗液及使用该清洗液清洗玻璃基板的方法
[P].
刘小勇
论文数:
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刘小勇
.
中国专利
:CN103045391A
,2013-04-17
[9]
基板清洗液以及器件的制造方法
[P].
绢田贵史
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绢田贵史
;
长原达郎
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长原达郎
;
堀场优子
论文数:
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堀场优子
.
中国专利
:CN113195696A
,2021-07-30
[10]
清洗液及清洗方法
[P].
宫下雅之
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宫下雅之
;
久次米孝信
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久次米孝信
;
山本雅士
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山本雅士
;
伊达和哉
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0
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伊达和哉
.
中国专利
:CN102628009B
,2012-08-08
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