等离子处理设备及其等离子体约束环

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311127814.7
申请日
2023-09-01
公开(公告)号
CN119560359A
公开(公告)日
2025-03-04
发明(设计)人
张一川 范光伟 顾继强
申请人
中微半导体设备(上海)股份有限公司
申请人地址
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
IPC主分类号
H01J37/32
IPC分类号
代理机构
上海元好知识产权代理有限公司 31323
代理人
张妍;张静洁
法律状态
公开
国省代码
上海市 市辖区
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共 50 条
[1]
等离子体约束环、约束组件及等离子体处理装置 [P]. 
范光伟 ;
叶如彬 ;
杨宽 ;
周艳 .
中国专利 :CN221102005U ,2024-06-07
[2]
等离子体产生设备及等离子体处理设备 [P]. 
尤里·N·托尔马切夫 ;
马东俊 ;
金大一 ;
瑟吉·Y·纳瓦拉 .
中国专利 :CN1652661A ,2005-08-10
[3]
等离子体约束环、等离子体处理设备及处理半导体的方法 [P]. 
叶如彬 .
中国专利 :CN115547799A ,2022-12-30
[4]
等离子体约束组件及等离子体处理装置 [P]. 
范光伟 ;
叶如彬 ;
杨宽 ;
周艳 .
中国专利 :CN119811971A ,2025-04-11
[5]
等离子体处理设备 [P]. 
有田洁 ;
中川显 .
中国专利 :CN101151703A ,2008-03-26
[6]
等离子体约束环、等离子体处理装置与基片处理方法 [P]. 
王兆祥 ;
苏兴才 .
中国专利 :CN106898534A ,2017-06-27
[7]
等离子体约束设备和等离子体约束的方法 [P]. 
扬·詹德伯格 .
中国专利 :CN114667575A ,2022-06-24
[8]
等离子体处理设备 [P]. 
李庸仁 ;
申东甲 ;
金祐永 ;
文范基 ;
文智媛 ;
白寅华 ;
石承大 ;
禹时雄 ;
张世训 .
韩国专利 :CN117476497A ,2024-01-30
[9]
等离子体处理设备及其包含等离子体处理设备的等离子体处理系统 [P]. 
范德宏 ;
左涛涛 .
中国专利 :CN112117176A ,2020-12-22
[10]
等离子体处理设备及其用于等离子体处理设备的接地环组件 [P]. 
王伟娜 ;
黄允文 ;
吴磊 .
中国专利 :CN112185786A ,2021-01-05